应用材料 应用材料centura机台

应用材料公司的Centura系列：半导体制造领域的卓越平台

应用材料公司的Centura系列，无疑是半导体制造领域的一颗璀璨明珠。这一系列的设备平台，以其出色的性能和先进的技术特点，在行业内享有盛誉。

一、薄膜沉积系统的技术翘楚

Centura系列中的薄膜沉积系统，是半导体制造中的关键环节。其中，Centura AP Ultima X高密度等离子体化学气相沉积(CVD)系统，为200/300mm晶圆提供了强大的支持。具备双射频线圈和静电卡盘设计，它在介电薄膜沉积和间隙填充方面表现出色。而Centura Ultima HDP CVD系统，同样适用于200mm和300mm晶圆，为STI、PMD等关键制程提供了高密度等离子CVD工艺。Centura Epi多腔室外延硅沉积系统，支持低温外延和锗/硅锗沉积，其Siconi预清洗腔的配置，更为工艺提升带来了可能。

二、刻蚀系统的图形化處理翘首以盼

刻蚀系统方面，Centura系列同样表现出色。Centura Sculpta设备采用Pattern Shaping技术，为图形化处理提供了高效解决方案。Centura Carina Etch高温刻蚀系统，更是专为45nm以下节点的HK/MG晶体管设计。而Centura AP AdvantEdge G5金属蚀刻系统，则面向150/200mm晶圆，支持高纵横比蚀刻。

三、市场价值与二手设备市场概况

Centura系列设备在新机市场上的价格高达3000-5000万美元，其中硬件成本占比60%。在二手设备市场，如Centura AP整机及电机组件等也存在流通。这一平台通过模块化设计，实现了工艺扩展，覆盖沉积、刻蚀等关键半导体制造环节。其高温工艺技术和多腔室配置，更是其主要的技术优势。

应用材料公司的Centura系列设备平台，以其卓越的性能和先进的技术，在半导体制造领域占据了重要的地位。无论是新机市场还是二手设备市场，都有着极高的价值和广泛的应用前景。其全面的工艺覆盖和强大的技术优势，更是使其在激烈的市场竞争中脱颖而出，成为行业的佼佼者。